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总建筑面积为149997 平方米武汉中国光谷文化创意产业园D地块项目 (进展1)

2014-02-11 未确定 3 亿

项目描述

项目描述 一项综合发展,总建筑面积为149,997平方米,包括:
*六幢六层高的研发办公楼
*一幢六层高的办公楼,设有单层高的地下室
*一幢17层高的办公楼,设有单层高的地下室
*七幢19层高的办公楼,设有单层高的地下室
*两幢24层高的办公楼,设有单层高的地下室
项目采用:框架-剪力墙结构
项目地址 登录注册后查看
开工日期 登录注册后查看
竣工日期 登录注册后查看

跟进记录

更新日期 跟进阶段 跟进沟通细节
2014-02-11 跟进1 登录注册后查看

项目详情

工程类型: 登录注册后查看 大型项目 登录注册后查看
项目类别
开工日期 ****年**月 竣工日期 ****年**月
建筑面积 149997 平方米 占地面积 暂未确定
预计成本 3 亿 建筑层数 登录注册后查看
业主类型 政府 外资参与 登录注册后查看
外墙材料 登录注册后查看 钢结构 登录注册后查看
装修情况 登录注册后查看 电梯情况 登录注册后查看
空调情况 登录注册后查看 供暖方式 登录注册后查看

项目地址

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